ENEA-IRIS Open Archive è l’archivio della produzione scientifica dell'ENEA, realizzato con l'obiettivo di raccogliere, catalogare e rendere facilmente accessibili in rete i risultati della ricerca. Gli autori dell’ENEA provvedono a depositare le proprie pubblicazioni (articoli su rivista, presentazioni a congressi, report, ecc.). In particolare, quelle finanziate dalla Commissione Europea nell’ambito del programma H2020 (che prevede il deposito obbligatorio in un Repository), una volta caricate, vengono automaticamente importate dal portale europeo OpenAIRE. È possibile inserire, o importare direttamente dalle banche dati previste, le informazioni descrittive del documento e anche allegare, ove consentito dalla normativa sul diritto d'autore, il testo completo della pubblicazione.
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EnglishThe main characteristics of the ENEA Discharge Produced Plasma (DPP) Extreme Ultraviolet (EUV) source are presented together with results of irradiations of various materials. The DPP EUV source, based on a Xe-plasma heated up to a temperature of 30 ÷ 40 eV, emits more than 30 mJ/sr/shot at 10 Hz rep. rate in the 10 ÷ 18 nm wavelength spectral range. The DPP is equipped with a debris mitigation system to protect particularly delicate components needed for patterning applications. The ENEA source has been successfully utilized for sub-micrometer pattern generation on photonic materials and on specifically designed chemically amplified resists. Details down to 100 nm have been replicated on such photoresists by our laboratory-scale apparatus for contact EUV lithography. Preliminary EUV irradiations of graphene films aimed at modifying its properties have been also performed. © 2019 SPIE.
| Titolo: | The ENEA discharge produced plasma extreme ultraviolet source and its patterning applications |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 2018 |
| Rivista: | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.12079/3849 |
| ISBN: | 9781510627505 |
| Appare nelle tipologie: | 4.1 Contributo in Atti di convegno |
File in questo prodotto:
http://hdl.handle.net/20.500.12079/3849
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