The use of versatile, well-Assessed and low-cost fabrication techniques consisting in physical vapor deposition of LiF films combined with an electron-beam direct writing lithographic process allows the realization of optically confined active structures, like broad-band emitters, channel waveguides and optical microcavities operating in the visible. © 2000 American Institute of Physics.
Titolo: | Miniaturized optical devices produced by electron beam lithography in lithium fluoride films |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 2000 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.12079/4261 |
ISBN: | 1563969297 |
Appare nelle tipologie: | 4.1 Contributo in Atti di convegno |
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