I processi di deposizione basati sul metodo Detonation Spray sono di grande interesse per la comunità scientifica LFR, in quanto consentono la deposizione di strati sottili, fino a 20m su substrati austenici e ferritici. I presente documento sintetizza le attività in corso e completate sul DS presso ENEA Brasimone.

Installazione e collaudo di una macchina per Detonation Spray

Gessi, Alessandro
2013-09-25

Abstract

I processi di deposizione basati sul metodo Detonation Spray sono di grande interesse per la comunità scientifica LFR, in quanto consentono la deposizione di strati sottili, fino a 20m su substrati austenici e ferritici. I presente documento sintetizza le attività in corso e completate sul DS presso ENEA Brasimone.
25-set-2013
Rapporto tecnico;Tecnologie dei materiali;Generation IV reactors
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12079/7653
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